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浙江大学团队发布新型激光直写光刻机 - 相关动态
本文要点：发布时间：2026年04月11日 14:08 来源：中国新闻网 4月10日，浙江大学极端光学技术偷拍系列 浴室办公室 酒店与仪器全国重点实验室在杭州举办成果发布会，宣布成功研发万通道3D纳米激光直写光刻机，为超分辨光刻、光子芯片制造、高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑。 据悉，该激光直写光刻机的加工精度可达亚30纳米，加工速率可达42.7平方毫米/分钟，最大刻写尺寸覆盖12 英寸硅片，为大面积微纳结构的高通量、高精度制造提供了新途径。(吴君毅 庄蕙语) 责任编辑：【罗攀】